产品中心
Products Center
BNE TC2000
- BNE自主研发的涂胶显影设备TC2000，适用于I-line、KrF、ArF及PI等工艺。设备配置了高精度、 高稳定性的传送模组与工艺模组， 以确保稳定的工艺结果。该设备占地面积小、可靠性高、易于维护， 可广泛应用于IC、 先进封装、MEMS、 功率器件、 射频集成等领域，设备还可根据需求进行功能定制化开发，以满足客户对于不同产品的需求。
BNE TC5000+
- BNE自主研发的匀胶/显影设备TC5000+，适用于直径1200mm以下的非规则、重载基底的匀胶或显影工艺；配备多级安全系统、 专业排风及排废系统，确保工艺安全与环境洁净；多层级权限管理体系和灵活的配方设置，便于复杂工艺的管理与调用；搭载多维度实时监控系统。设备还可根据客户特定的基片规格和复杂工艺需求定制方案， 以满足客户对于不同产品的需求。
BNE TC1500
- BNE自主研发的涂胶显影设备TC1500， 适用于G-line、 I-line、 PI等工艺，设备搭载高精度高稳定性的工艺模组，以确保稳定的工艺结果。该设备占地面积小、可靠性高、 易于维护， 可广泛应用于MEMS、 功率器件、 射频集成、光通讯、 LED等领域。
BNE TC1000-A
- BNE自主研发涂胶显影设备TC1000-A，适用于G-line、 I-line等工艺，设备搭载高精度高稳定性的工艺模组， 以确保稳定的工艺结果， 可广泛应用于6寸及以下功率器件、 LED等应用领域。
BNE TC1000-B
- BNE自主研发涂胶显影设备TC1000-B，适用于8寸及以下先进封装、 MEMS和LED等应用领域，设备搭载高性价比高稳定性的工艺模组，以确保稳定的工艺结果。该设备占地面积小、 可靠性高、易于维护，满足多种类晶圆制程需求。
BNE TC1000-C
- BNE自主研发的涂胶显影设备TC1000-C， 适用于12寸及以下先进封装、功率器件等应用领域， 设备搭载高性价比高稳定性的工艺模组， 以确保稳定的工艺结果。该设备占地面积小、 可靠性高、易于维护，满足多种类晶圆制程需求。
BNE TC1000-SC喷胶机
- BNE自主研发的涂胶显影设备TC1000-SC喷胶机，适应于深孔喷胶TSV、高深宽比台阶喷胶，提供高精度高性能的工艺模组， 以确保稳定的工艺结果。该设备占地面积小、可靠性高、易于维护， 广泛应用于12寸及以下先进封装、MEMS等领域。
TEL中古涂胶显影设备
- BNE专业承接TEL多系列涂胶显影设备的全方位服务， 涵盖拆机、安装、翻新、软硬件改造、 Parts替代开发及维护保养。
